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イラスト素材: 半導体CVD成膜プロセス図化学気相成長による薄膜形成装置

素材番号 : 137955979 全て表示

半導体CVD成膜プロセス図化学気相成長による薄膜形成装置[137955979]のイラスト素材は、工場、チップ、テクノロジーのタグが含まれています。この素材はhalmioさん(No.2456419)の作品です。SサイズからXLサイズ、ベクター素材まで、¥550からご購入いただけます。無料の会員登録で、カンプ画像のダウンロードや画質の確認、検討中リストをご利用いただけます。全て表示

半導体CVD成膜プロセス図化学気相成長による薄膜形成装置 137955979

半導体CVD成膜プロセス図化学気相成長による薄膜形成装置 137955979

半導体CVD成膜プロセス図化学気相成長による薄膜形成装置

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	S	640 x 360px 22.6 x 12.7cm (72dpi)	JPG+PNG	¥550	5プリペイド
	M	2000 x 1125px 16.9 x 9.5cm (300dpi)	JPG+PNG	¥1,980	18プリペイド
	L	4000 x 2250px 33.9 x 19.0cm (300dpi)	JPG+PNG	¥3,630	33プリペイド
	XL	6300 x 3544px 53.3 x 30.0cm (300dpi)	JPG+PNG	¥5,500	50プリペイド
	V	ベクター	EPS	¥3,850	35プリペイド
	Ex	エクストラライセンスを追加		+¥3,300	+30プリペイド
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